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紫外臭氧清洗機(jī),半導(dǎo)體材料UV清洗機(jī),單晶基片清洗設(shè)備
簡要描述：臭氧紫外清洗機(jī)?的原理主要是利用紫外光和臭氧的相互作用來去除材料表面的有機(jī)污染物。 紫外光清洗技術(shù)通過發(fā)射波長為185nm和254nm的光波，這些光波具有很高的能量。當(dāng)這些光子作用到被清洗物體表面時，它們會使被清洗物體表面的有機(jī)物質(zhì)發(fā)生光敏氧化作用，分解成離...
更新時間：2024-12-23 08:36:35- 訪 問 量：391
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